對于容性耦合放電的真空等離子清洗機(jī)而言，無論是直流輝光放電，還是交流高頻放電的放電形式，只要工藝氣體是惰性氣體就都會不可避免的產(chǎn)生濺射。在普通的產(chǎn)品和材料中，微弱的濺射現(xiàn)象并不會影響到基體的特性，但對于要求比較嚴(yán)格的產(chǎn)品而言，諸如醫(yī)療器械，則濺射現(xiàn)象越少越好，所以可見不同材料受到的射頻濺射的影響是不同的，今天我們所要聊到的便是射頻濺射對于等離子清洗機(jī)處理產(chǎn)品的影響。

　　1、射頻濺射介紹

　　真空等離子清洗機(jī)在低壓狀態(tài)下射頻自偏壓在電極板周圍會產(chǎn)生自偏壓鞘層，鞘層內(nèi)的離子受自偏壓的驅(qū)動(dòng)會加速向極板運(yùn)動(dòng)，從而對極板材料產(chǎn)生濺射。

　　金屬的濺射閾值大約都在10~30eV的范圍，而當(dāng)離子能量增大到100eV之前，濺射率就會隨之增加，在很寬的范圍內(nèi)，濺射率有極大值，然后就逐漸變小。例如對于300eV能量的Ar離子濺射靶，其濺射效率為0.3，600eV能量的Ar濺射靶效率為0.45，而對于300eV的氮離子注入靶濺射效率比0.3小一點(diǎn)。當(dāng)使用圓柱式射頻振蕩時(shí)，如果外電極接地，內(nèi)電極上自偏壓相對于外電極顯負(fù)電性。內(nèi)電極上自偏壓會在內(nèi)電極周圍產(chǎn)生一個(gè)離子鞘，內(nèi)電極材料被鞘內(nèi)離子濺射。

　　為了增加RF濺射效率，一般在濺射靶材背面加上磁鐵，稱為射頻磁控濺射。如下圖電子在磁場的靶表面回旋運(yùn)動(dòng)，靶表面上的等離子體密度增大，放電阻抗低，因此可以獲得比普通極板RF濺射高 10~100倍的濺射效率。在濺射的過程中，靶材通常溫度很高，所以需要有水冷。

　　磁控靶表面磁場分布及電子運(yùn)動(dòng)狀態(tài)當(dāng)使用圓柱式電極RF濺射時(shí)，若在中心電極上實(shí)行濺射，可將中心電極做成中空細(xì)圓筒，在圓筒內(nèi)加入磁鐵，可以實(shí)現(xiàn)中心電極磁控濺射。

　　容性耦合的真空等離子清洗機(jī)，無論是多層電極，抑或雙層，基本上都采用鋁合金作為電極，這主要是因?yàn)榻饘黉X具有良好的散熱性能和對等離子體的耐候性，但是長期在等離子轟擊下，電極表面仍然有鋁原子逃逸出來。

　　真空等離子清洗機(jī)多層水平電極3、射頻濺射對處理產(chǎn)品的影響

　　正是由于射頻濺射會轟擊出金屬粒子，這些金屬粒子會被附著在產(chǎn)品表面，形成污染，例如半導(dǎo)體引線框架，偶爾還會發(fā)現(xiàn)金屬注入的現(xiàn)象，打線質(zhì)量受到影響，又如醫(yī)療用高分子材料表面會殘余金屬原子，對使用的人體存在著隱患等。

　　為了避免或減少射頻濺射對產(chǎn)品影響，等離子清洗機(jī)的腔體結(jié)構(gòu)、電極板冷卻以及工藝參數(shù)的優(yōu)化都非常重要，這也正是在許多等離子處理的過程中所都要注意到的。當(dāng)然也不能忽視射頻濺射的積極作用，它的處理特性也是之所以被應(yīng)用的重要原因。